低溫冷卻液循環泵采用風冷式全封閉壓縮機組制冷及微機智能控制系統,提供低溫循環冷卻水(液)流或低溫恒溫水(液)

流,本產品特點控溫精度為：±0.01(℃)．以滿足用冷卻水及低溫液體去降溫或恒溫儀器,如旋轉蒸發器、發酵罐、電

子顯微鏡、低溫化學反應釜、電子能譜儀、質譜儀、密度儀、冷凍干燥儀、真空鍍膜儀、反應釜等。也可把多種容積

直接在槽內低溫恒溫實驗。

低溫冷卻液循環泵（泵），又稱制冷循環機，是自帶制冷的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石

油、化工、冶金、醫藥、生化、物性，測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。根據槽

開口尺寸的不同，可在浴槽內進行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設備相連接，與恒溫源配套使用。內循環：通過泵

對槽內液體介質的循環吞吐，增加槽內溫度的均勻性，減少溫度波動。外循環, ：通過泵的循環能力，利用出水口,

將保溫軟管與外部設備連接，形成封閉回路，流回設備進水口，是將槽內恒溫介質外引，建立外部恒溫場。循環水恒

溫的應用領域：

生化領域：旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器

（合成器）等。材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞

試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波

治療機、醫用冷帽、降溫毯等等。物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用

的各種需水冷設備。

產品特點：

節約能源——在夏季和高環境溫度下，冷卻水可在系統回路中循環使用，節約大量的水資源。

效率更高——一臺循環水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求，持續提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。

控溫精度——PID控溫技術，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數字顯示，操作直觀

安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種安全保障功能。

低溫不凍液配比

A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）

B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶

液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其最

低溫度必須在0℃以上。

冷卻水選型相關：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發儀、平行

定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于

AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業，旋轉蒸發儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打

標機、激光切割機等激光儀器及機床行業。制冷能力在10KW以上大型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質譜

儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等

具有高制冷恒溫要求設備。

應用范圍：

對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝

置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。

其他產業用機器發熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型

機、樹脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X

線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優質的純凈水在機內外循環冷

卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。